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Photoresist
光刻膠
我們致力于印制電路板、面板顯示、集成電路和半導體分立器件等細分行業光學圖形轉移材料的研發。在特種材料領域持續開發市場所需的新產品及應用解決方案,為我們的市場及客戶注入生機。
半導體光刻膠
用于半導體材料光刻制造的感光塑料樹脂溶液(“光刻膠”)。這種產品由聚合光敏劑、非水溶劑和各種其他化學品組成。光刻膠用于覆蓋在沉積了金屬氧化物的硅片上,光刻工藝歷經硅片表面脫水烘烤、旋轉涂膠、軟烘、曝光、曝光后烘烤、顯影、堅膜烘烤、顯影檢查等工序,該硅片最終將被制造成半導體材料。
LED光刻膠
g line光刻膠
I line 光刻膠
其他光刻膠
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